公司喜获两项核心发明专利授权

杭州国磊半导体设备有限公司喜获两项核心发明专利授权,再次证明了国磊在科技创新领域的卓越实力!

第一项专利是一种多背板架构的ATE测试设备;第二项专利是一种ATE设备智能温度控制装置及方法。

这两项专利是国磊团队不懈努力和创新思维的结晶,代表着国磊在科技领域的重大突破。我们为能够通过我们的研究和努力为半导体产业带来积极的变革感到无比自豪。同时,这也是国磊的一个重要里程碑

A20220801001-一种多背板架构的 ATE 测试设备-发明专利证书_00A20220801002-一种ATE设备智能温度控制装置及方法-发明专利证书_00

首先,要感谢国磊优秀的团队成员,你们的辛勤工作、无私奉献和才智使这一切成为可能。你们的智慧和创造力推动了我们的技术取得了突破,并将其转化为现实。每一位团队成员的贡献都是不可或缺的,正是我们集体的智慧和努力才使得这项技术在竞争激烈的市场中脱颖而出。

其次,要特别感谢国磊的合作伙伴和支持者,没有你们的信任、合作和支持,我们无法取得如此重要的成果。你们的专业知识、资源共享和经验交流为我们提供了宝贵的帮助和指导,使我们能够克服各种困难和挑战。

这项专利的获得不仅代表着我们团队的成功,也象征着对创新、突破和未来的信念。我们的技术不仅在行业内具有创新性,还将对社会产生积极的影响。我们相信,这项专利将为我们开辟更广阔的发展空间,并为用户带来更好的体验和解决方案。

最后,我想向所有的创新者们致以崇高的敬意和诚挚的感谢。创新是推动世界进步的动力,而我们的成功离不开前辈们的启发和引领。希望我们的成果能够激发更多人投身于科技创新的道路上,共同推动社会的发展和进步。

再次感谢每一位团队成员、合作伙伴和支持者的辛勤付出和支持。这是一个令人兴奋的时刻,让我们一起为这个重要的里程碑庆祝,并期待国磊半导体在未来能够不断创新,获得更多成就,创造新的辉煌!

 

收藏
创建时间:2023-07-17 09:57

文章推荐

杭州国磊半导体设备有限公司喜获两项核心发明专利授权,再次证明了国磊在科技创新领域的卓越实力!

【文章简介】